Molybdenum Sputtering Target Bagian Mesin

Target sputtering molybdenum adalah bahan target yang digunakan dalam deposisi uap fisik (PVD) atau proses sputtering magnetron (sputtering). Molybdenum adalah elemen logam dengan konduktivitas termal yang baik, resistensi korosi dan sifat mekanik dan karenanya banyak digunakan dalam persiapan film tipis dan pelapis.

Target sputtering molibdenum biasanya digunakan untuk persiapan film fungsional seperti film konduktif, film optik, film yang tahan korosi, dll. Mereka juga digunakan untuk persiapan lensa optik, filter optik dan komponen optik lainnya. Target sputtering molybdenum disiapkan dengan metalurgi bubuk, cetakan kompresi panas, penekanan isostatik panas, dan metode lain untuk memastikan kemurnian tinggi, keseragaman, dan kepadatan target.

Spesifikasi dan bentuk target sputtering molibdenum dapat disesuaikan sesuai dengan kebutuhan pelanggan, dan bentuk umum termasuk disk, persegi, persegi panjang dan sebagainya. Selama penggunaan, perawatan perlu diambil untuk menjaga permukaan target bersih dan datar untuk memastikan stabilitas proses sputtering dan kualitas lapisan film.